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桌面型納米壓印機
超緊身納米技術熱轉印工藝機
光刻系統水平實踐上就是種精密手工加工外表面手工加工系統水平,它推動于千萬光波長的二氧化碳激光器光線或者決定性的化學上的金屬腐蝕和刻蝕系統水平把結構設計的微納花紋的動物圖案轉變到硅的柔性板上。可是漸漸融合集成運放特點和強度的提升自己以往的光刻系統水平就都不可夠滿足某個對線寬愈來愈越小的意愿。可是消除衍射極限值點的玄幻光刻產品又穩定性很貴。因為消除光學儀器衍射極限值點和解決高成本費用低的控制,一類實際操作方便,成本費用低昂貴的nm印壓系統水平誕生了。nm印壓的系統水平管理的本質是積極主動利用率物理能將鋼性摸版上的花紋的動物圖案轉到抗蝕劑上,后再推動溶脫、剝除、刻蝕等將花紋的動物圖案轉變到的柔性板上。到當下都印壓系統水平就都發展壯大出現多重款式,非常典型的包擴熱塑印壓系統水平、紫外光固化型印壓、微碰觸nm印壓、二氧化碳激光器手游輔助nm印壓和滾軸式nm印壓系統水平等。 重慶昊量光電技術儀器非常有限我司開售的納米熱轉印工藝機AU-CUI為熱熱轉印工藝和UV紫外線應用熱轉印工藝儀器。 AU-CNI納米技術級技術熱轉印工藝機一款桌面圖標寬度的納米技術級技術熱轉印工藝和熱壓拉深的刷卡機。它需要廣泛用于納米技術或納米技術級技術組成部分的熱轉印工藝拉深。AU-CNI往往需要完成熱熱轉印工藝還需要完成UV熱轉印工藝。這對熱印壓首要系統順利通過施用心理壓力使模板圖片與基材牢固學習,高層供水時間范圍極限大約到11bar,大多數保證環境溫度表把控熱轉印工藝流程。環境溫度表最底高達到200℃,可能選取原位實時視頻測定溫度,但是控溫表面粗糙度能夠達到到1℃。
UV曝光過度過度進行4個365nm的LED光照,組合式光的功效達到到11.6W,LED的溫被城市熱力圖檢測工具,得到cpu溫度過高防護系統,哪怕造成cpu溫度過高的干涉現象也都可以提高認識曝光過度過度用藥量合適。 除外機成為整潔的操作的應用。經過應用行有效控制壓紋的環境溫度、工作壓力、曝光度的時間等規格。從而行編相互依存儲在該應用中。AU-CUI其運行簡單,功效強大,方便滿足新的實驗所和非標準件準的制造。是微米熱轉印工藝的*用具。
- 印壓蝴蝶圖案例:
u 桌面型納米壓印機軟件特質:
l 運作簡潔
l 即插即用
l 機構狹窄
l 許多種種類
u 核心應運
l 納米技術/納米技術組成的熱轉印工藝
l 高縱行比結構設計的壓紋
l 合成樹脂物的熱印壓
l 壓紋模板制作而成制作而成
u 設備性能指標
Pressure | Imprint pressure from 0.3 - 11 bar overpressure |
Temperature | Up to 200ºC with control of +/- 1ºC |
UV exposure | UV led light with 365 nm wavelength and optical power of 11600 mW |
Vacuum | The imprint chamber can be evacuated down to pressure below 1 mbar |
Size of imprint chamber | Diameter of 100 mm and height of 20 mm (can be expanded up to 45 mm) |
Automated replication process | 1)Stamp and substrate are loaded manually 2)Replication process is fully automated and controlled through CNI software |
Software | Full process control and flexibility. Everything besides loading and unloading is handled by the software |
CNI customization | CNI can be modified to meet individual requirements |
On-line video instructions | On-line video installation and operation guides |
Optional | 1)Pressure booster to boost a lab compressed air supply from 3-5 bar to 6-10 bar 2)Training and/or installation by NILT personnel |