CVD制备设备-上海昊量光电设备有限公司

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專用實驗設備

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石墨烯CVD制備設備
這款配置的低真空CVD系統由1200℃真空管式爐,3通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產有雙溫區、三溫區、多溫區）,可預抽真空（有高真空、低真空）,通多種氣氛（供氣系統有質子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、閥均釆用進口設備,性能可靠。控制電躋選用模糊PD程控技術,具有控溫精度髙,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。石墨烯CVD制備設備

型號：廠商性質：選擇商
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